有許多方法可以確定乳液的平均液滴尺寸，但大多數方法無法確定少量會導致頸環的超大尺寸物質?；诖笮『陀嫈祮蝹€粒子的方法特別適合這種類型的分析，在此過程中，即使是少量異常值也可以進行大小和計數。通過原理為單顆粒光學傳感器技術（SPOS）的Acc...

粒徑在線檢測儀是一種非接觸式多頻譜近紅外水分測量儀，采用新的多頻譜近紅外硬件技術和*的算法結合數據模型結構實現在線含水率測量，內置了多種研發的軟件算法，結合德國的制造工藝，從而形成了*的技術優勢，這款儀器采用當今新的多頻譜硬件技術和*模糊數...

概述化學機械拋光/平面化（CMP）是微電子工業中廣泛應用的一種結合化學和機械力對表面進行拋光的工藝。漿料的粒度儀分布是控制平化成功與否的關鍵參數。一些大顆粒會劃傷晶圓或磁盤驅動器的表面，降低產量和利潤。Accusizer粒度計數分析儀是能夠...

Zeta電位被用來測量膠體分散體的穩定性。它的基礎是電勢與粒子表面的電荷成比例。Zeta電位越大，粒子間的斥力就越強。如此大的斥力使擴散的粒子不會隨機碰撞在一起形成聚集體。zeta電勢的測量在其他方面也很有用。在本文中，zeta電位被用來測...

傳統意義上，紅細胞和白細胞都是用電阻法計數的。這種方法測量的是當分散在導電介質中的粒子通過小孔時，電阻的增加或相反，電導率的減少。這種反應的大小與粒子的體積和大小有關。盡管這項技術多年來一直適用，但本文證明，使用SPOS(單粒子光學傳感)結...

CMP漿體粒徑分析：SPOS與費朗霍夫半導體行業正在朝著更小的線寬和更多的層的方向發展。邁向這種高密度芯片技術的重要的工藝考慮之一是對平面化步驟的更復雜的控制。拋光步驟受膠體分散金屬氧化物漿料（CMP，化學機械平面化的簡稱）的影響，主要是二...

磨料漿檢測儀應用十分廣泛，主要應用于石化工業、電力工業、航空造船業、造紙業、紡織業、冶金工業等。采用標準的凱氏定氮方法:濃硫酸消化、堿性環境蒸汽蒸餾、硼酸吸收、指示劑滴定終點顏色判定法；采用持續滴定方式，可無*滴定，無需來回抽吸試劑；終點可...

在線激光粒度儀是通過顆粒的衍射或散射光的空間分布(散射譜)來分析顆粒大小的儀器，采用Furanhofer衍射及Mie散射理論，測試過程不受溫度變化、介質黏度，試樣密度及表面狀態等諸多因素的影響，只要將待測樣品均勻地展現于激光束中，即可獲得的...